摘要：磷酸鹽電解液體系下,以CeO2作為電解液添加劑,采用恒壓模式對氫化鋯(ZrH1.8)表面進行微弧氧化(MAO)處理,研究正向電壓對陶瓷層厚度、相結構、形貌,結合力以及阻氫滲透性能的影響。利用掃描電鏡(SEM)、 X射線衍射儀(XRD)、涂層測厚儀、涂層劃痕儀,分別分析了陶瓷層的表面和截面形貌、相結構、陶瓷層厚度以及膜層與基體的結合力,通過真空脫氫實驗評價陶瓷層的阻氫性能。結果表明:隨著正向電壓的增加,氫化鋯表面微弧氧化陶瓷層的厚度逐漸增加,當正向電壓為375 V時陶瓷層的阻氫性能較好,氫滲透降低因子PRF值可達到14.2;正向電壓的改變對陶瓷層的相結構沒有明顯影響,膜層主要由單斜相氧化鋯(m-ZrO2)、四方相氧化鋯(t-ZrO2)和立方相氧化鈰(c-CeO2)組成,且以單斜相氧化鋯(m-ZrO2)為主。