摘要：為了實現NA1.35投影光刻光學系統高質量成像,在設計過程中除了控制波像差,還需進一步優化光學系統的偏振像差。利用Jones光瞳和物理光瞳表達了NA1.35投影光刻光學系統的偏振像差,并用二向衰減量與延遲量分析了光學系統偏振像差的大小;根據光線入射到不同光學面上最大入射角度的不同,為每個光學面設計相應的膜系以優化光學系統的偏振像差。相比于采用常規膜系,膜系優化后NA1.35投影光刻光學系統的二向衰減量和延遲量分別減小到了0.021 8、0.057 2 rad,即減小了光學系統的偏振像差。利用Prolith光刻仿真軟件,分別對采用常規膜系和優化膜系的NA1.35投影光刻光學系統進行曝光性能仿真,結果顯示:膜系優化后光學系統的成像對比度提高了4.4%,證明了NA1.35投影光刻光學系統偏振像差優化方法的有效性。